公司沿革

由创新工业技术移转股份有限公司发起设立，筹备委员会推选史钦泰先生为主任委员，聘请陈碧湾先生担任筹备处主任。

奉科学工业园区核准，符合科学工业园区设置管理条例第三条所规定之科学工业准予在园区投资设立。

发起人会议通过公司章程，并选举董事及监察人，董事当选人为张忠谋、史钦泰、章青驹、张宝熙、曾繁城、黄显雄、蒋起麟、郭瑞雨、陈碧湾等九人，监察人为陈民瞻、吴国精、蔡美丽等三人。董事会推选史钦泰先生担任董事长，并聘请陈碧湾先生担任总经理。

正式取得公司执照。

获新竹科学工业园区核准拨土地 0.96 公顷作为建厂使用。

本公司位于科学工业园区新厂正式奠基动土。

本公司购入第二台电子束曝光系统。

获证期会核准为股票公开发行公司。

本公司于新竹科学园区新建厂房落成起用。

完成工研院电子所委制之 4 M DRAM 光罩，证明我国发展次微米之实力。

与日本 ICA 公司签约购买 ETEC 公司所制造之雷射式曝光系统 CORE-2564，以配合积体电路工业发展 16 M DRAM 及 64 M DRAM 所需。

美国 ICS 公司来台颁发品质零缺点奖牌给本公司，以表彰本公司交货迅速及品质无缺点事迹。

与工研院电子所合作开发制造液晶显示器(LCD)用光罩成品，并正式供应 LCD 业者使用。

新购雷射曝光设备 CORE-2564PSM 运抵工厂，本机型增加电脑快速处理能力，并可开发相位变换光罩，是当时最新型之曝光设备。

台湾证券交易所申报于 4 月 17 日正式挂牌上市。

本公司购入大型光罩曝光机到厂装机，为我国第一家可提供液晶显示器所需之大型光罩。

本公司购买日本电子光学公司所出产之电子束曝光设备到厂装机，该机型号为 JBX-7000MV，是专为生产 64M 及 256M DRAM 所设计，本公司第一次引进可变型曝光系统，配合现有设备将可为本公司现有生产方式迈入新的纪元。

本公司与联华电子公司签订 0.35 微米光罩量产合作协议书，联华电子公司将于 86 年购买一台0.35 微米制程用光罩曝光机放置于本公司，由本公司负责管理生产及制造以供应该公司八吋晶圆厂所需之光罩。

本公司购买美国 ETEC 公司所出产之雷射曝光设备到厂装机，该机型号为 ALTA-3000，为当时最新型精密之设备，为专为 0.35 微米制程量产及 0.25 微米制程开发所设计之机型，本机将为本公司供应积体电路八吋厂所用之光罩获得充份支援及供应。

ISO 9000 品质认证通过。

本公司购买美国 ETEC 公司所出产之雷射曝光设备，该机型号为 ALTA-3500，是专为 0.18 微米制程量产及 0.15 制程开发所设计之机型。

合并新台科技股份有限公司基准日。

本公司二厂已全部建设完成并使用。

本公司购买日本 NUFLARE 公司所出产之电子束曝光设备，该机型号为 EBM3500S，是专为 0.13 微米制程量产及 0.11 制程开发所设计之机型。

本公司购买日本 JEOL 公司所出产之电子束曝光设备，该机型号为 JBX3030/3040，是专为 0.11 微米制程量产及 90 奈米制程开发所设计之机型。

ISO 14000 环境管理认证通过

合并美禄科技(股)公司基准日。

本公司购买日本 JEOL 公司所出产之电子束曝光设备，该机型号为 JBX3050MVS，是专为 65 奈米制程量产及 40奈米制程开发所设计之机型。

群丰科技(股)公司全面改选董事，本公司之子公司友縳投资(股)公司当选该公司过半董事会席次，取得对该公司之实质控制力，自该日起将该公司纳入集团之子公司。

昱嘉科技(股)公司于 109 年 12 月 16 日召开股东临时会全面改选董事，本公司之子公司友縳投资(股)公司当选该公司所有董事会席次，取得对该公司之实质控制力，自该日起纳入本公司之子公司。

ISO 27000 资讯保安管理系统

本公司购买日本 JEOL 公司所出产之电子束曝光设备，该机型号为 JBX3200MVS，是专为 40 奈米制程量产及 28奈米制程开发所设计之机型。