Mask Rule Check
- 台湾光罩提供业界最高性能的解决方案 检查(MRC) 及图形比对能力。自行设计一套全面的检查 MRC 显著提高最复杂的数据验证效率 先进技术节点的设计。
- 满足要求的准确和详尽的验证光罩品质和成本目标 更快的上市时间和具有成本效益的光罩制造需要彻底和 在将光罩投入制造之前准确验证数据。
Remote JDV
客户在传送图档(GDS)后,经过TMC的资料处理单位将晶圆厂的FRAME及相关IP等资讯合并,转换成光罩写入机可读之档案格式,再提供EJDV之连结路径与帐号密码,供客户比对检验,确认转档与原设计一致,可进行制作,即可于线上点选RELEASE,通知TMC启动排程,尽速上线完成客户所需产品。附档可点选EJDV使用说明,或有操作疑问请洽
CS_GP@TMCNET.COM.TW
CAD Design Layout
- 辅助客户设计服务完成光罩产品制作,转档及检查作业。
- 协助客户生产及制造所需的图形辅助,CAD 布局。
- 光罩设计服务将曝光机台及客户设计图面整合。